先進封裝已成為半導體突破算力瓶頸的絕對戰場!回顧這場技術革命,2016年的InFO首度印證其龐大的商業價值,也為台灣供應鏈打下堅實底蘊,產業從平面走向立體、從有機材料跨入玻璃基板。面對產能緊缺與技術交替,看懂技術演進的產業邏輯,將是洞悉全球半導體版圖重構與供應鏈突圍的關鍵所在。




【文/吳旻蓁】




隨著AI算力需求迎來史無前例的爆發,全球市場資金正高度聚焦於半導體供應鏈的同一處戰場——先進封裝。原因無他,在這個得算力者得天下的時代,單一晶片的效能提升已不足以應付龐大的資料吞吐;而先進封裝因可將運算核心如GPU或ASIC與高頻寬記憶體(HBM)等,以最短路徑、最低功耗的方式整合在一起,因而成為目前半導體供應鏈中產能相當吃緊的重要環節。




InFO助台積電甩開三星





然而,這場牽動全球科技巨頭競逐、也改變台灣半導體供應鏈版圖的封裝革命,並非一夕之間引爆。若要追溯先進封裝真正跨越成本門檻、走向大規模商業化的起點,時間可以回到2,016年。當年蘋果推出iPhone 7,其搭載的A10處理器首度大規模採用台積電的InFO(Integrated Fan-Out,整合型扇出封裝)技術;彼時,台積電與三星在16/14奈米先進製程仍競爭激烈,但InFO帶來更輕薄、更低功耗的封裝優勢,成為台積電取得蘋果高度信任的重要技術優勢之一,也讓先進封裝首度證明具備大規模商業化的價值。




若沿著技術發展脈絡回顧,其實台積電早在2011年左右便推出CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate)技術,並於2012年前後開始量產。不過,由於CoWoS採用昂貴的矽中介層(Silicon Interposer),製造成本居高不下,早期主要應用於賽靈思(Xilinx)等高階FPGA產品,市場規模始終侷限於利基市場。為了切入龐大的智慧型手機市場,台積電進一步發展出成本更具競爭力的InFO,捨棄傳統有機封裝基板,以重新佈線層(RDL)直接完成I/O重新分配與訊號連接,不僅有效降低封裝厚度與成本,也讓先進封裝真正跨越商業化門檻。




傳統封裝主要透過打線或覆晶方式,將裸晶連接至封裝基板,再與PCB相連。隨著晶片持續微縮,可容納的I/O數量逐漸受限,形成傳輸瓶頸。為了解決I/O限制,扇出型封裝(Fan-Out)技術開始興起,將訊號佈線延伸至晶片之外,而InFO則進一步捨棄封裝基板,將晶片直接嵌入模塑樹脂(Molding Compound)中,再透過半導體微影技術製作高密度重新布線層,使I/O重新分配更具彈性,也縮短訊號傳輸路徑,改善功耗與訊號完整性。由於不再需要傳統封裝基板,封裝厚度可進一步壓縮,更符合智慧型手機與穿戴式裝置對輕薄短小的需求,也成功建立起消費性電子市場大規模採用先進封裝的商業模式。




Apple之所以看重InFO,不只是晶片更薄,而是封裝直接影響終端產品設計。智慧型手機內部空間寸土寸金,封裝每減少一點厚度,都可能換來更大的電池、更好的鏡頭模組或更充裕的散熱空間。因此,自A10開始,封裝不再只是後段製程,而是晶圓代工競爭力的重要一環。




CoWoS接手AI高階戰場





不過,InFO的成功,也正凸顯不同世代算力需求所帶來的技術分野。如今,當AI伺服器開始大量採用GPU與高頻寬記憶體,單一晶片尺寸持續放大,系統功耗動輒數100瓦,封裝除了需要更高I/O密度,也必須同時兼顧散熱能力與HBM整合需求。此時,以矽中介層為核心的CoWoS重新站上舞台,從過去侷限於利基市場的高階技術,一躍成為全球AI晶片最重要的封裝方案,也掀起今日市場最受矚目的先進封裝擴產熱潮。(全文未完)




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◎封面故事:光互連先落地HBM仍驗證
◎特別企劃:產能供不應求 台積電後勁強
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